1994年5月，香港铜锣湾一栋老旧唐楼的三层，悄然挂上了“深港科技交流中心”的牌子。没有开业仪式，没有媒体报道，只有每周四晚亮起的灯光，和陆续出现的、带着各地口音的技术人。

这里是李明翰的建议。四月那次会面后，他回到台湾，用了三周时间说服两位搭档——一位是他在台积电时的同事，专攻蚀刻工艺；另一位是留学美国的材料学博士，父亲是台南的小学教师。三人以“私人旅游”名义再次抵港，带来了第一批“礼物”：三箱技术资料。

“都是公开发表的论文和会议记录，”李明翰指着箱子，“但经过筛选，重点是工艺细节和失败案例——这些是课堂上学不到的。”

陈思北带着上海团队的两个年轻工程师，连夜研读。资料是繁体字和英文混杂，有些页边还有手写笔记，字迹娟秀：“此参数在Fab 2验证失败，疑为温度梯度导致”“尝试添加0.1%氩气，良率提升3%”。

“这是真正的经验。”年轻工程师小陆眼睛发亮，“我们试错了三个月没解决的问题，这里一句话就点破了。”

周四晚的沙龙，来了十二个人。除了李明翰团队和陈思北团队，还有四位香港本地工程师——两位来自港大微电子实验室，一位是英国留学回来的模拟电路设计师，一位是退休的电子厂技术主管，潮州人，讲粤语要配翻译。

开场有些拘谨。香港工程师对“九七”后的技术合作既期待又疑虑；台湾团队刻意避开政治词汇，只谈“制程”“良率”“热预算”；大陆团队则努力消化那些陌生的术语和思路。

转折点出现在一次技术争论上。

讨论到光刻胶显影环节的缺陷控制时，李明翰的搭档——那位蚀刻专家——提出一个观点：“缺陷主要来自环境微粒，建议洁净室标准提升到Class 10。”

“但我们实测发现，Class 100和Class 10的缺陷率差异只有0.3%。”陈思北团队的工艺工程师反驳，“成本却差五倍。更关键的是，我们的问题是显影液配方不均匀，和环境关系不大。”

双方拿出数据。台湾方面是台积电Fab 3的产线统计，大陆方面是上海实验室三个月的手工记录。数据对撞，争论升级。

“你们的采样频率不够。”台湾专家指着图表，“每小时取一次样，根本抓不到瞬态波动。”

“但我们用五点采样法，结合SPC控制图……”大陆工程师不服。

“停。”李明翰突然举手。他走到白板前，画了一个简单的流程图：“我们都别争对错。我问个问题：你们显影槽的搅拌器，是顶置式还是侧置式？”

“顶置。”

“转速？”

“每分钟三百转。”

李明翰笑了，转头问台湾搭档：“你记不记得，1991年我们在Fab 2遇到的那个鬼影缺陷？”